1200℃差溫蒸鍍沉積爐
該設(shè)備主要用于材料科學(xué)、物理、化學(xué)等領(lǐng)域的實(shí)驗(yàn)研究。用于制備各種功能性薄膜和高性能材料。這些薄膜和材料在半導(dǎo)體、光電子、能源、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域都有重要應(yīng)用。
該設(shè)備采用高純石英元件，具有出色的高溫穩(wěn)定性，能夠在高溫環(huán)境下長時間穩(wěn)定運(yùn)行。采用先進(jìn)的溫度控制系統(tǒng)和可編程程序控溫技術(shù)，可以精確控制每個溫區(qū)的溫度，確保實(shí)驗(yàn)過程中的溫度穩(wěn)定性和精確性。且系統(tǒng)采用高效的CVD沉積技術(shù)，可以在短時間內(nèi)制備出高質(zhì)量的材料和薄膜。該設(shè)備還具有完善的安全保護(hù)功能，能夠有效地防止實(shí)驗(yàn)過程中可能出現(xiàn)的意外情況。并且可以根據(jù)客戶需求進(jìn)行擴(kuò)展和升級，滿足不同領(lǐng)域的研究需求。
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